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Extreme Ultraviolett-Lithographie (EUVL)

Einführung Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) ist eine fortschrittliche Technologie, die eine Lichtquelle von 13.5 nm verwendet und ein führender Kandidat für die 22-nm-Knotenlithographie und darüber hinaus ist. Die EUV-Lithographie befindet sich derzeit in der Pilotphase
Mai6, 2022
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